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公开/公告号CN100460896C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-02-11
原文格式PDF
申请/专利权人 富士胶片株式会社;
申请/专利号CN200580029833.X
发明设计人 大谷薰明;福重裕一;
申请日2005-08-30
分类号G02B1/11(20060101);G02B5/30(20060101);B05D7/24(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人于辉
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 09:01:40
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-02-11
授权
2007-09-26
实质审查的生效
2007-08-01
公开
机译: 光学薄膜的沉积方法,抗反射膜的制造方法和抗反射膜
机译: 改进的倾斜入射角沉积装置,使用相同的制造非反射性光学薄膜的方法以及非反射性光学薄膜
机译: 光学薄膜,由该光学薄膜形成的光学部件,防反射膜以及由该防反射膜形成的塑料光学部件
机译:混合锥形亚波长结构的光学薄膜表面的改进抗反射性能
机译:宽带抗反射膜用超低折射率氟化镁光学薄膜的溶胶凝胶制备
机译:SiO_2平面化对光学薄膜性能和抗激光损伤的影响
机译:用应用优化光学薄膜滤膜的新方法
机译:有机无机的制备与性能用低温工艺使用的混合抗反射薄膜中空二氧化硅纳米粒子
机译:不同薄膜材料,厚度和基材的光学薄膜反射率和透射特性分析
机译:适用于极端环境的坚固,薄膜光学薄膜