实现可变鳍片间距的双芯轴

摘要

本发明涉及实现可变鳍片间距的双芯轴，其使用双掩膜工艺以形成在不同阵列内具有受控的且可变的鳍片间距的半导体鳍片阵列。在该工艺期间，顶部芯轴层位于半导体衬底上方的底部芯轴层上方。形成于该衬底的第一区域内的第一芯轴上的侧壁结构定义图案化硬掩膜，其与位于该衬底的第二区域上方的图案化光阻层配合以在该衬底的第一区域及第二区域内形成第二芯轴。将形成于该第二芯轴上的侧壁结构用作掩膜层，以在该衬底上方形成多个鳍片。