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等离子纳米抛光装置及半封闭内孔金属工件自动抛光设备

摘要

本发明涉及抛光技术领域,尤其是涉及一种等离子纳米抛光装置及半封闭内孔金属工件自动抛光设备;包括抛光导电槽,抛光导电槽内设有储液腔,储液腔内部设有加热机构,储液腔的底部间隔布设有多个与储液腔底部垂直连接的导电柱,各导电柱的内部设有引流腔,各引流腔向上贯通导电柱的顶部,抛光导电槽的底部设有与各引流腔一一对应的引出孔,引出孔通过回流管路与等离子液存储箱的进液口连通,等离子液存储箱的出液口与抛光导电槽的进液口连通,等离子液存储箱与抛光导电槽间的回流管路上还连通有液泵;还包括抛光工件导电夹具,抛光工件导电夹具与电源正极电连接,抛光导电槽与电源负极电连接。

著录项

  • 公开/公告号CN111152073B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 于成泽;

    申请/专利号CN201911376154.X

  • 发明设计人 陶立群;

    申请日2019-12-27

  • 分类号B24B1/00(20060101);B24B41/06(20120101);B24B41/00(20060101);C23F4/00(20060101);

  • 代理机构11504 北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人姚远方

  • 地址 300131 天津市红桥区桃花堤大道桃花园南里43门509号

  • 入库时间 2022-08-23 11:51:22

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