公开/公告号CN110042357B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-05-14
原文格式PDF
申请/专利权人 河南理工大学;
申请/专利号CN201910431279.1
发明设计人 曹军;
申请日2019-05-22
分类号C23C14/35(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/54(20060101);C22C9/00(20060101);H01B13/00(20060101);B21C1/00(20060101);B21C3/02(20060101);B21C31/00(20060101);
代理机构11387 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘春成;刘素霞
地址 454000 河南省焦作市高新区世纪大道2001号
入库时间 2022-08-23 11:47:51
机译: 磁控溅射装置的靶组件,磁控溅射装置和使用磁控溅射装置的方法
机译: 在真空室中操作用于磁控溅射的大型阴极,其中阴极包括靶,包括通过装置产生磁场,并将靶分为两个部分靶
机译: 控制磁控溅射装置的装置和方式无效,该磁控溅射装置对暴露于单独放电的靶具有单独的磁场关闭