法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-01-23
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 31/105 授权公告日:20081008 终止日期:20111124 申请日:20061124
专利权的终止
2008-10-08
授权
授权
2007-07-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-05-09
公开
公开
机译: 包含铝,镓,铟,砷和锑的化合物的半导体组件具有台面结构,其侧面具有铝,镓,砷和锑的化合物的钝化层。
机译: 用于计算机断层摄影设备中的辐射探测器,用于探测例如X射线辐射,具有由砷化铟,磷酸铟,锑酸镓,氧化锌,氮化镓或碳化硅制成的中间层
机译: 在台面图案化衬底上外延生长的异质结构半导体激光器的制造方法-使用三甲基甲基镓作为源气体,在台面条纹侧面上通过电流阻挡砷化镓层的外延MOCVD生长