公开/公告号CN110125397B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-30
原文格式PDF
申请/专利权人 哈尔滨工业大学;
申请/专利号CN201910416480.2
申请日2019-05-20
分类号B22F10/368(20210101);B22F10/38(20210101);B22F3/105(20060101);B33Y40/00(20200101);
代理机构23210 哈尔滨市文洋专利代理事务所(普通合伙);
代理人王艳萍
地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
入库时间 2022-08-23 11:42:58
机译: 旋转靶表达电子束照射膜形成设备和旋转靶表达电子束照射辅助激光烧蚀膜沉积设备
机译: 蒸气沉积材料的制造方法,蒸气沉积材料的制造装置,电子束照射蒸气沉积方法和蒸气沉积材料的电子束照射蒸气沉积
机译: 沉积材料的制造方法,沉积材料的制造装置,电子束辐照沉积方法和电子束辐照沉积的沉积材料