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公开/公告号CN108152940B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-27
原文格式PDF
申请/专利权人 佳能株式会社;
申请/专利号CN201711263241.5
发明设计人 大阪昇;
申请日2017-12-05
分类号G02B17/08(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11038 中国贸促会专利商标事务所有限公司;
代理人孙蕾
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 11:42:24
机译: 反射/折射投影光学系统,具有反射/折射投影光学系统的曝光设备及其制造方法
机译: 反射折射光学系统和配备该反射折射光学系统的投射曝光设备
机译:用于曝光工具照明的创新折射光学系统
机译:基于多毛细管X射线光学系统和单反射单毛细管单光学系统的组合光学系统,用于聚焦来自常规实验室X射线源的X射线
机译:非成像光学系统(1):LED照明光学系统
机译:高Na EUV曝光工具的照明光学和投影光学系统的研制(HINA)
机译:使用时变边界条件扩散的梯度折射率光学系统制造设计。
机译:基于多色光声仪器的无色差反射镜光学系统设计
机译:LED光源照明光学系统概述(<特色>光学系统的演变和改变LED光源的光学分析技术)
机译:用于激光多普勒测速仪应用的反射折射光学系统