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MOS晶体管及用于制造MOS晶体管结构的方法

摘要

本发明提出一种MOS晶体管(12),它具有在一个SOI晶片(10)中的一个源极区(20),一个栅极区(22),一个漏极区(24)及一个漂移区(26,28),其中SOI晶片具有一个载体层(14),该载体层载有一个绝缘的中间层(16)并且其中该绝缘的中间层载有一个有源半导体层(18),在该有源半导体层中横向不同的掺杂剂浓度确定了源极区(20),漂移区(26,28)及漏极区(24),及其中有源半导体层(18)至少在漂移区(26,28)的一部分中比在源极区(20)中厚。该MOS-晶体管(12)的其特征在于:有源半导体层(18)在垂直方向上完全通过绝缘的中间层(16)与衬底(18)分隔。此外还提出用于制造这种晶体管的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN100440479C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-12-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ATMEL德国有限公司;

    申请/专利号CN200510006288.4

  • 发明设计人 福尔克尔·杜德克;

    申请日2005-02-02

  • 分类号H01L21/786(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人曾立

  • 地址 联邦德国海尔布隆

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/786 授权公告日:20081203 终止日期:20140202 申请日:20050202

    专利权的终止

  • 2008-12-03

    授权

    授权

  • 2007-02-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-10

    公开

    公开

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