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用于化学机械研磨工艺模型建模的测试图形

摘要

本发明公开了一种用于化学机械研磨工艺模型建模的测试图形,除了包括现有以线/线间隔为组元的单一测试图形结构,还提供一种包括两种组元的双重测试结构。变化双重测试结构中两种组元的密度、线宽、线间距以及周长等几何特征,可以得到差异的目标图形几何特征与周围图形几何特征,从而可以更好的引入目标区域周围图形的几何特征影响,进而提高了化学机械研磨工艺模型的准确性。

著录项

  • 公开/公告号CN107908854B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201711102787.2

  • 发明设计人 姜立维;曹云;魏芳;

    申请日2017-11-10

  • 分类号G06F30/398(20200101);G06F119/18(20200101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人戴广志

  • 地址 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 11:39:17

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