一种提高硫化锑薄膜光电性能的方法

摘要

本发明公开了一种提高硫化锑薄膜光电性能的方法，该方法采用一种新型的水溶液沉积方法与热处理结合的制备方法制备硫化锑薄膜，通过旋涂、浸泡、热蒸发、电沉积和光电沉积等方法在硫化锑电极表面原位生长助催化剂，制备Sb₂S₃/Co₃O₄、Sb₂S₃/Co‑Pi和Sb₂S₃/FeOOH等复合电极；提高Sb₂S₃电极的光电化学性能。该方法具有设备、操作简单、价格便宜和易于连续生产等优点，同时负载助催化剂之后，极大的提升了硫化锑薄膜的光电性能。