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确定在光刻步骤中待施加到衬底的图案的组合

摘要

描述了一种配置成处理多个衬底的直接写入曝光设备,所述设备包括:衬底保持器,所述衬底保持器配置成保持具有可用图案化区域的衬底;图案形成系统,所述图案形成系统配置成将不同图案投影到所述衬底上;处理系统,所述处理系统配置成:确定待施加于所述多个衬底的第一衬底上的一个或更多个图案的第一组合;和确定待施加于所述多个衬底的后续第二衬底上的一个或更多个图案的不同的第二组合。

著录项

  • 公开/公告号CN109564390B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201780045011.3

  • 发明设计人 C·A·维索尔伦;E·P·斯马克曼;

    申请日2017-06-27

  • 分类号G03F7/20(20060101);G03F1/50(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王静

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 11:36:29

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