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公开/公告号CN110823832B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-19
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院电子学研究所;
申请/专利号CN201911152487.4
发明设计人 吴世有;刘辉;李超;常超;方广有;
申请日2019-11-20
分类号G01N21/3586(20140101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人吴梦圆
地址 100190 北京市海淀区北四环西路19号
入库时间 2022-08-23 11:35:48
机译: 用于样品的空间分辨暗场成像的暗场成像装置和检查方法
机译: 用于样品空间分辨的暗场成像的暗场成像装置及检查方法
机译:基于非共线自由空间电光采样的实时二维时空太赫兹成像及其在运动目标太赫兹成像中的应用
机译:DNAzyme催化的Au / Ag纳米型通过暗场成像与微瘤超声检测的暗场成像可视化的蚀刻方法
机译:利用侧流暗场成像对皮肤微循环成像的可调稳定装置
机译:细菌菌落成像选择装置暗场照明光学系统的优化设计
机译:实验性和基于模型的小鼠,人类和幻影乳腺癌组织的太赫兹成像和光谱学
机译:基于力传感装置方法的股骨组件旋转术后层析成像与基于解剖地标方法的假想旋转对准的先导研究
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