法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-09-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 7/185 授权公告日:20081015 申请日:20060907
专利权的终止
2008-10-15
授权
授权
2007-04-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-02-21
公开
公开
机译: 用于投影曝光系统的光学系统中的成像光学器件,具有成像光承载部件和用于掠过成像光入射的反射镜,其中用于接触入射的反射镜布置在像束路径中
机译: 用于投影曝光系统的反射镜的成像特性变化装置,具有形成的致动器,使得通过温度变化将可变的力引入反射镜,其中力导致反射镜表面变形
机译: 使用可变成像平面投影的x射线成像方法和应用该方法的x射线成像装置