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磁场诱导沉积方法制备磁性纳米间隙电极

摘要

磁场诱导取向沉积方法制备磁性纳米间隙电极,涉及一种纳米结构、纳米器件的加工技术。该方法通过磁性金属在普通光刻电极上的选择性沉积与沿者电极对方向的磁场同步诱导取向生长,在不相应增加电极的侧向宽度情况下将普通光刻电极对的间隙减小到纳米级,实现磁性纳米间隙电极的简便低廉加工。制备的方法如下:首先,用普通光刻工艺制备出微米级或亚微米级间隙的原型电极;在原型电极表面组装双功能分子、键合引发剂,使电极表面具有催化活性;将具有催化活性的原型电极放入磁性金属或合金的化学镀溶液中,同时沿着原型电极对方向上施加一个外磁场,同步诱导磁性金属或合金在电极对尖端处优先沉积与取向生长,获得磁性纳米间隙电极。

著录项

  • 公开/公告号CN100418874C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东南大学;

    申请/专利号CN200410065951.3

  • 发明设计人 徐丽娜;顾宁;解胜利;黄岚;

    申请日2004-12-28

  • 分类号B82B3/00(20060101);H01L21/288(20060101);H01L21/445(20060101);

  • 代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;

  • 代理人叶连生

  • 地址 210096 江苏省南京市四牌楼2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B82B 3/00 授权公告日:20080917 终止日期:20101228 申请日:20041228

    专利权的终止

  • 2008-09-17

    授权

    授权

  • 2005-08-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-29

    公开

    公开

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