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基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置

摘要

一种基于微纳米气相和洛伦兹力的高精度均匀化抛光装置,包括由压力表、加工装置、磨粒缸、泵和控制阀组成的低压磨粒流回路,置于加工装置后方的电磁铁,置于磨粒缸中的搅拌器和水冷装置以及系统控制器;低压磨粒流在角度可调的楔形流道内抛光工件;角度可调指楔形流道的顶面倾斜角度可调;微纳米气相指磨粒流中的微小空化泡,由安装在加工装置流道入口前的微纳米气泡发生器产生;洛伦兹力为磁场对带电磨粒的作用力;磁场为置于加工装置后方的电磁铁所产生的平行于工件表面且垂直于磨粒流流动方向的强度可调均匀磁场;带负电磨粒为表面带负电荷的碳化硅磨粒。本发明使工件抛光后表面粗糙度均匀、表面精度提高、加工效率提高。

著录项

  • 公开/公告号CN110405620B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江工业大学;

    申请/专利号CN201910675889.6

  • 发明设计人 赵军;彭浩然;方海东;

    申请日2019-07-25

  • 分类号B24B31/112(20060101);B24B31/12(20060101);B24B1/00(20060101);

  • 代理机构33241 杭州斯可睿专利事务所有限公司;

  • 代理人王利强

  • 地址 310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号

  • 入库时间 2022-08-23 11:33:04

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