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具有直径和数密度一维梯度的纳米粒子阵列气相合成方法

摘要

本发明是采用气相聚集法团簇束流源(1)产生纳米粒子,通过绝热膨胀获得纳米粒子束流(5),再经过准直器(4)进入高真空沉积室(6)而形成高度定向的纳米粒子束流;旋转衬底座,使衬底(7)与纳米粒子束流(5)成10°的入射角、并保持衬底(7)与阻挡掩模(11)位于纳米粒子束(5)的曝射区内,控制纳米粒子束流(5)对衬底(7)沉积30秒后,即可在衬底(7)的表面上获得具有直径和数密度一维梯度的纳米粒子阵列。该方法具有高效、低成本、工艺简单等特点,在常见的纳米粒子源的工艺参数下,通过数十秒钟就可以完成纳米粒子梯度阵列的沉积。

著录项

  • 公开/公告号CN100434353C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京大学;

    申请/专利号CN200610037968.7

  • 申请日2006-01-24

  • 分类号B81C1/00(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所;

  • 代理人阙如生

  • 地址 210093 江苏省南京市汉口路22号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-03-26

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B81C 1/00 授权公告日:20081119 终止日期:20130124 申请日:20060124

    专利权的终止

  • 2008-11-19

    授权

    授权

  • 2006-09-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-08-02

    公开

    公开

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