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氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法

摘要

本发明涉及电化学氧传感器技术领域,尤其涉及氧传感器用电解质层和致密扩散层双层结构的制备方法。本发明所提供的制备方法,是在电解质层胚体上采用冷喷涂法或真空冷喷涂法形成致密扩散层,或者是在致密扩散层胚体上采用冷喷涂法或真空冷喷涂法形成电解质层。该制备方法制备出的电解质层和致密扩散层双层结构中电解质层和致密扩散层的结合强度高,致密度高,气孔少。

著录项

  • 公开/公告号CN108218439B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东北大学;

    申请/专利号CN201810026776.9

  • 申请日2018-01-11

  • 分类号C04B35/622(20060101);C04B35/48(20060101);C04B35/50(20060101);G01N27/409(20060101);

  • 代理机构11613 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人齐胜杰

  • 地址 110169 辽宁省沈阳市浑南区创新路195号

  • 入库时间 2022-08-23 11:31:38

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