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公开/公告号CN110945591B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-29
原文格式PDF
申请/专利权人 长江存储科技有限责任公司;
申请/专利号CN201980002588.5
发明设计人 魏文喆;刘红涛;游开开;李达;黄莹;王明;宋雅丽;黄德佳;
申请日2019-10-23
分类号G11C16/10(20060101);
代理机构11376 北京永新同创知识产权代理有限公司;
代理人林锦辉;刘景峰
地址 430074 湖北省武汉市东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
入库时间 2022-08-23 11:30:48
机译: 电可擦除可编程半导体存储器件以及用于对该半导体存储器件进行擦除和编程的方法
机译: 可变电阻存储器件和对可变电阻存储器件进行编程的方法
机译: 用于对适于最小化浮栅耦合的存储器件进行编程的方法和存储器件
机译:使用Fowler-Nordheim编程和热孔擦除方法的70 nm氧化硅-氮化物-氧化硅-非易失性存储器件
机译:聚合物与六芳基联咪唑共混向光可编程和热擦除存储器件时的光/热响应场效应晶体管
机译:基于HfO 2 sub>的FeFET存储器件的编程/擦除循环降解机制
机译:表征对浮置阱非易失性半导体存储器件进行编程期间引起的对薄氧化物的损坏
机译:对电影系列进行编程:对影响分配电影系列所选方法成本的因素进行的案例分析。
机译:基于Ω型栅极有机铁电P(VDF-TrFE)场效应晶体管的低可编程电压非易失性存储器件使用p型硅纳米线通道
机译:基于Ω型栅极有机铁电P(VDF-TrFE)场效应晶体管的低可编程电压非易失性存储器件,使用p型硅纳米线通道
机译:IDT静态Ram(随机存取存储器件)上的相关质子和重离子镦粗测量