首页> 中国专利> 制作高频大功率硅锗异质结双极晶体管结构的方法

制作高频大功率硅锗异质结双极晶体管结构的方法

摘要

一种制作高频大功率硅锗异质结双极晶体管结构的方法,包括:在轻参杂硅衬底上依次生长子收集区、收集区、基区及发射区,形成制作器件的基片;采用干法刻蚀的方法,在器件基片的表面相隔预定间距刻蚀至收集区,形成子单元台面;在子单元台面上制作发射极金属电极,利用发射极金属电极作掩蔽,采用湿法腐蚀形成基区台面;采用带胶剥离的方法在基区台面和收集区台面同时形成基区和收集区电极;在经过制作的基片表面淀积二氧化硅包层,在该二氧化硅包层上光刻腐蚀电极孔;再在二氧化硅包层上蒸镀金属电极、光刻腐蚀形成单元互联电极,完成器件的制作。

著录项

  • 公开/公告号CN100424837C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN200510126327.4

  • 发明设计人 薛春来;成步文;姚飞;王启明;

    申请日2005-12-07

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-02-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/331 授权公告日:20081008 终止日期:20100107 申请日:20051207

    专利权的终止

  • 2008-10-08

    授权

    授权

  • 2007-08-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-06-13

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号