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一种基于二维材料薄膜/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件

摘要

本发明公开了一种基于二维材料薄膜/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件,包括组成阵列的若干像素,所述像素自下而上依次包括栅极、半导体衬底、绝缘层、二维材料薄膜、源极与漏极;所述二维材料薄膜覆盖在所述绝缘层的上表面;所述源极和所述漏极水平间隔布置于所述二维材料薄膜的上表面;二维材料薄膜同时具有光电响应和场效应。入射光照射到器件表面,被二维材料薄膜和半导体衬底吸收。由于二维材料的特殊性质,其通过电容耦合可有效收集载流子,产生的光电流信号可以直接从单个像素输出,实现本地随机读取,无需采用像素间横向转移电荷方式,从根本上改变电荷耦合器件的信号读出方式,提高系统响应速度、线性动态范围和可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN108281454B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州紫元科技有限公司;

    申请/专利号CN201810082765.2

  • 发明设计人 徐杨;郭宏伟;李炜;俞滨;

    申请日2018-01-29

  • 分类号H01L27/148(20060101);H01L31/107(20060101);

  • 代理机构33305 杭州信义达专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人施建勇

  • 地址 310000 浙江省杭州市富阳区银湖街道富闲路9号银湖创新中心7号二层216室

  • 入库时间 2022-08-23 11:29:27

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