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薄膜电容元件用组合物、高电容率绝缘膜、薄膜电容元件和薄膜叠层电容器

摘要

本发明是在基板4上依次形成了下部电极6、电介质薄膜8和上部电极10的薄膜电容器2。电介质薄膜8由薄膜电容元件用组合物构成,该薄膜电容元件用组合物具有c轴相对于基板面垂直取向的铋层状化合物,该铋层状化合物用组成式:(Bi2O2)2+(Aa-1BmO3m+1)2-或Bi2Am-1BmO3m+3表示,上述组成式中的符号m为奇数,符号A为选自Na、K、Pb、Ba、Sr、Ca和Bi的至少1种元素,符号B为选自Fe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、Mo和W的至少1种元素。即使减薄也具有比较高的电容率并且损耗低,漏电特性优良,耐电压提高,电容率的温度特性优良,表面平滑性也优良。

著录项

  • 公开/公告号CN100431066C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TDK株式会社;

    申请/专利号CN02821456.0

  • 发明设计人 坂下幸雄;舟洼浩;

    申请日2002-08-26

  • 分类号H01G4/12(20060101);H01L27/10(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人郭煜;郭广迅

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:01:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-11-05

    授权

    授权

  • 2005-04-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-02-09

    公开

    公开

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