用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法，上述相变薄膜材料为多层复合膜结构，由GeTe层和Sb层交替沉积复合而成，将一层GeTe层和一层Sb层作为一个交替周期，后一个交替周期的GeTe层沉积在前一个交替周期的Sb层上方。经试验证实，本发明的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料反射率发生突变的时间约为5.3ns，而单层Ge₂Sb₂Te₅传统相变薄膜材料反射率发生突变的时间约为39ns；说明与传统单层Ge₂Sb₂Te₅相变薄膜材料相比，本发明的相变薄膜材料具有更快的相变速度，从而使得用其制备的相变存储器具有更快的操作速度，有利于提高PCRAM信息读写的速度。