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公开/公告号CN110039380B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-01
原文格式PDF
申请/专利权人 上海理工大学;
申请/专利号CN201910290196.5
发明设计人 姜晨;钱大兵;姜臻禹;林文鑫;彭涛;
申请日2019-04-11
分类号B24B1/00(20060101);B24B19/02(20060101);
代理机构31204 上海德昭知识产权代理有限公司;
代理人郁旦蓉
地址 200093 上海市杨浦区军工路516号
入库时间 2022-08-23 11:23:49
机译: 用于磁性,光学和半导体衬底的抛光垫,在环形抛光轨迹宽度内的抛光层中具有径向微通道
机译: 用于对微结构纤维的聚合物预成型件进行抛光的主轴,一种用于对微结构纤维以及聚合物微结构纤维的聚合物预成型件进行抛光的方法,该方法是使用经抛光的预成型坯制成的
机译: 一种抛光液,用于抛光组件,尤其是晶片,特别是用于化学-机械抛光此类结构元件的抛光液
机译:金属材料的抛光特性研究及用于微模具图案超精密抛光的微MR流体喷射抛光系统的开发
机译:超声波辅助微抛光进行非球面抛光-台式微非球面抛光装置的原型以及微非球面抛光可能性的验证
机译:通过超声波负载的微抛光方法验证原型抛光方法的非球面抛光桌面微散抛光装置的原型
机译:MCF(磁性复合流体)抛光工具的新抛光方法
机译:用于微立铣刀制造的单晶金刚石和陶瓷的基于心轴的抛光:超高速微加工主轴的抛光特性和误差运动分析。
机译:用于快速低量多二甲基硅氧烷和热塑性微流体器件制造的聚合物微通道和微胶体表面抛光
机译:用于光子和高频微磁性装置的人工周期性磁性结构
机译:低温染料对低温超抛光镜和超抛光四方晶体微天平的影响