公开/公告号CN108496115B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-13
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201680079694.X
发明设计人 J·F·迪杰克斯曼;B·L·W·M·范德文;K·G·温克尔斯;T·W·德赖森;G·O·瓦申科;P·M·鲍姆加特;W·H·T·M·安格南特;J·O·纽文坎普;W·R·坎平加;J·劳特萨莱南;
申请日2016-12-15
分类号G03F7/20(20060101);H05G2/00(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华;崔卿虎
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 11:21:09
机译: 用于光刻设备的液滴发生器,EUV源和光刻设备
机译: 用于光刻设备的液滴发生器,EUV源和光刻设备
机译: 光刻设备,EUV源和光刻设备的液滴生成器