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法拉第屏蔽桶、环形件、腔室组件及重溅射腔室

摘要

本发明提供一种法拉第屏蔽桶,在法拉第屏蔽桶的与环形件形成间隙的位置处形成有辅助结构,辅助结构用于减少法拉第屏蔽桶和环形件之间形成的分布电容的平行板正对面积与平行板间距离之间的比值,以减小分布电容的容值大小。还提供一种环形件,在环形件的与法拉第屏蔽桶形成间隙的位置处形成有辅助结构,辅助结构用于减少法拉第屏蔽桶和环形件之间形成的分布电容的平行板正对面积与平行板间距离之间的比值,以减小分布电容的容值大小。本发明提供的腔室组件和重溅射腔室,可以提高重溅射刻蚀的速率。

著录项

  • 公开/公告号CN110396663B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京北方华创微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201810373383.5

  • 发明设计人 刘建生;侯珏;张彦召;佘清;

    申请日2018-04-24

  • 分类号C23C14/34(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/16(20060101);

  • 代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人彭瑞欣;张天舒

  • 地址 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

  • 入库时间 2022-08-23 11:20:45

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