公开/公告号CN110396663B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-10
原文格式PDF
申请/专利权人 北京北方华创微电子装备有限公司;
申请/专利号CN201810373383.5
申请日2018-04-24
分类号C23C14/34(20060101);C23C14/02(20060101);C23C14/16(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人彭瑞欣;张天舒
地址 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
入库时间 2022-08-23 11:20:45
机译: 蚀刻系统,特别是等离子蚀刻系统,具有处理腔室,该处理腔室在内壁上衬有至少一个陶瓷材料的环形腔室组件
机译: 反应重溅射介电材料的PVD腔室中的腔室粘贴方法
机译: 反应重溅射介电材料的PVD腔室中的腔室粘贴方法