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基于二维光学点阵的漫反射型表面形貌测量方法

摘要

本发明涉及一种基于二维光学点阵的漫反射型表面形貌测量方法,包括:搭建生成二维光学点阵的光路系统,由此光路系统生成的二维光学点阵被整体放大后照射到被测物体表面,经由充当“小孔成像”的“小孔”的漫反射成像透镜后由相机完成图像采集,保存的图像用于后续的表面形貌解算;将标准平面样品放置在被测物体位置上,二维光学点阵会投射到其表面并进行漫反射成像,利用相机采集成像结果;采集完标准平面的点阵图像后,将被测物体放在同样位置,利用相同方法对被测物体表面进行测量;经过图像处理提取出二维光学点阵中各个点元素的位置偏移量;求解出被测形貌。

著录项

  • 公开/公告号CN109579747B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN201811173059.5

  • 申请日2018-10-09

  • 分类号G01B11/30(20060101);G01N21/88(20060101);

  • 代理机构12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人程毓英

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2022-08-23 11:19:38

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