法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-01
专利权的转移 IPC(主分类):G06F 17/50 登记生效日:20170814 变更前: 变更后: 申请日:20041216
专利申请权、专利权的转移
2008-06-04
授权
授权
2008-06-04
授权
授权
2005-09-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-09-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-07-27
公开
公开
2005-07-27
公开
公开
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机译: 设计布局创建方法,设计布局创建系统,掩模制造方法,半导体器件制造方法和设计布局创建程序
机译: 掩膜图案的校正方法,光掩膜,制造光掩膜的方法,用于制造光掩膜的电子束写入方法,曝光方法,半导体器件以及用于制造半导体器件的方法
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