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一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法

摘要

一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,包括步骤:(1)根据首个阵列标记,以及阵列标记的行数,得到对应行数的一维列阵列标记;(2)根据一维列阵列标记的行间距,以及阵列标记的列数,得到对应行间距的二维阵列标记;(3)根据阵列标记的列间距,得到对应列间距的二维阵列标记。本发明的在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,根据用户的需求,按照指定的创建位置、间距以及方向,一次性完成所有阵列标记的创建,提高了用户的工作效率,加速了芯片的制造速度,并且还能够防止创建标记时出现偏差,造成signoff(流片)时的电气规则检查错误。

著录项

  • 公开/公告号CN107203671B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京华大九天软件有限公司;

    申请/专利号CN201710417343.1

  • 申请日2017-06-06

  • 分类号G06F30/31(20200101);

  • 代理机构11467 北京德崇智捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王金双

  • 地址 100102 北京市朝阳区利泽中二路2号A座2层

  • 入库时间 2022-08-23 11:18:29

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