集成电路设计制造方法以及集成电路设计系统

摘要

本发明提供一集成电路设计制造方法以及集成电路设计系统。该集成电路设计制造方法包括：接收一集成电路版图文件；以及对集成电路版图文件执行一反式电子束技术工艺以产生一最终掩膜图案，其中反式电子束技术工艺使用一单一反式电子束技术模型以模拟一掩膜工艺以及晶圆工艺。