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用于在电容耦接等离子体源下方对工件进行均匀照射的孔图案

摘要

本发明公开了一种用于与处理腔室一起使用的等离子体源组件,所述等离子体源组件包括区隔板,所述区隔板具有在所述区隔板的内部电气中心内的第一组孔,以及围绕所述外周缘的较小孔。所述孔的直径可从所述电气中心向外至所述周缘逐渐减小,或者可以离散地递减并且在所述外周缘处具有最小的直径。

著录项

  • 公开/公告号CN108630515B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201810425525.8

  • 申请日2015-06-25

  • 分类号H01J37/32(20060101);C23C16/455(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人侯颖媖;金红莲

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 11:17:50

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