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氧化镓半导体结构、垂直型氧化镓基功率器件及制备方法

摘要

本发明提供一种氧化镓半导体结构、垂直型氧化镓基功率器件及制备方法,通过键合和减薄,将非故意掺杂的氧化镓层转移到高掺杂、高导热的异质衬底上,通过对氧化镓层的表面处理及离子注入,可获得重掺氧化镓层,制备包括依次叠置异质衬底、氧化镓层及重掺氧化镓层的氧化镓半导体结构;在基于氧化镓半导体结构制备的垂直型氧化镓基功率器件中,由于中间层为较厚的氧化镓层,且相较于重掺氧化镓层,载流子浓度较低,设计上增加了器件的击穿电压,且由于高导热的异质衬底可提高器件的散热能力,其次器件多Fin的结构可提供大电流,对未来垂直型氧化镓基高功率器件的发展有极其重要的意义。

著录项

  • 公开/公告号CN111223782B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201911174463.9

  • 发明设计人 欧欣;徐文慧;游天桂;沈正皓;

    申请日2019-11-26

  • 分类号H01L21/34(20060101);H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构31233 上海泰能知识产权代理事务所;

  • 代理人宋缨

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2022-08-23 11:17:47

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