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在多层图形间测量重叠误差的重叠测量标记和方法

摘要

一种在半导体器件的多层图形间测量重叠误差的重叠测量标记和方法。用第一掩模在划片线第一选择部分上形成由两个平行且隔开的图形组成的第一重叠测量图形,用第二掩模在划片线第二选择部分上形成由两个平行且隔开的图形组成的第二重叠测量图形使其不重叠于第一重叠测量图形。用第三掩模在划片线部位的第一和第二重叠测量图形内侧中心形成第三重叠标测量图形。测量第一与第三重叠测量图形间的距离和第二与第三重叠测量图形间的距离。

著录项

  • 公开/公告号CN1055787C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2000-08-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 现代电子产业株式会社;

    申请/专利号CN94120777.3

  • 发明设计人 裵相万;

    申请日1994-12-27

  • 分类号H01L21/66;G03F9/00;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人萧掬昌;王忠忠

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-02-18

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/66 授权公告日:20000823 终止日期:20131227 申请日:19941227

    专利权的终止

  • 2000-08-23

    授权

    授权

  • 1996-07-10

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1995-09-27

    公开

    公开

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