首页> 中国专利> 结晶性层叠结构体和半导体装置

结晶性层叠结构体和半导体装置

摘要

本发明的目的是提供一种半导体特性出色的结晶性层叠结构体以及半导体装置。所述结晶性层叠结构体包括:底层基板;和刚玉结构的结晶性氧化物半导体薄膜,直接或介由其他层设置于所述底层基板上,其中所述结晶性氧化物半导体薄膜的表面粗糙度Ra为0.1μm以下,所述结晶性氧化物半导体薄膜的厚度为1μm以上。

著录项

  • 公开/公告号CN110310996B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社FLOSFIA;

    申请/专利号CN201910634597.8

  • 发明设计人 人罗俊实;织田真也;

    申请日2015-03-30

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);H01L29/10(20060101);H01L29/24(20060101);H01L29/04(20060101);H01L21/02(20060101);H01L21/34(20060101);

  • 代理机构11018 北京德琦知识产权代理有限公司;

  • 代理人文哲;康泉

  • 地址 日本京都

  • 入库时间 2022-08-23 11:12:49

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号