多栅指电极的电子束光刻方法及多栅指电极

摘要

本发明适用于半导体技术领域，提供了一种多栅指电极的电子束光刻方法及多栅指电极。多栅指电极的电子束光刻方法包括：在基片表面涂覆电子束光刻胶；根据版图图形对涂覆电子束光刻胶后的基片进行电子束曝光处理；其中，所述版图图形包括连接臂图形、多个并排排列的栅指图形和至少两个虚拟栅指图形，所述连接臂图形与各个栅指图形的一端连接，所述虚拟栅指图形分别设置在最外侧两个栅指图形的外侧，且所述虚拟栅指图形与所述连接臂图形相隔预设间隔；对电子束曝光处理后的基片进行显影处理。本发明能够制备尺寸均匀的多栅指电极，提高器件的可靠性。