单层双材料微悬臂梁热隔离焦平面阵列的制作方法

摘要

一种单层双材料微悬臂梁热隔离焦平面阵列的制作方法，包括：1.在单晶硅基片上双面生长氮化硅薄膜；2.用加热的氢氧化钾溶液各向异性腐蚀氮化硅；3.在正面甩正性光刻胶；4.在背面甩正性光刻胶，光学光刻背面窗口图形；5.各向异性刻蚀有光刻图形面；6.去除光刻胶；7.在正面甩正性光刻胶，光学光刻正面氮化硅梁图形；8.在有光刻图形的一面蒸发、剥离铬薄膜；9.各向异性刻蚀有铬薄膜覆盖的氮化硅；10.各向同性腐蚀去除铬薄膜；11.在有氮化硅梁图形的正面甩正性光刻胶，光学光刻正面隔离金图形；12.蒸发、剥离金；13.用加热的氢氧化钾溶液各向异性腐蚀基片，完成镂空的双材料微悬臂梁热隔离结构焦平面阵列的制作。