用于钨和GST膜的蚀刻溶液

摘要

本文描述了适合于含钨金属和GST金属两者的蚀刻溶液，其包含：水；至少一种具有至少两个羟基的酚衍生物化合物；选自以下的至少一种强碱：(i)季碱；(ii)有机胺；和(iii)金属氢氧化物；任选地，有机酸的铵盐；和任选地，水可混溶溶剂，其中所述蚀刻溶液的pH是10或更大，并且其中所述蚀刻溶液基本上不具有过氧化物氧化剂和含金属离子氧化剂。