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基于模型的离子束刻蚀速率控制方法及装置

摘要

本发明实施例提供了一种离子束刻蚀的刻蚀速率控制方法、离子束刻蚀方法及装置,其中,速率控制方法包括:获取目标刻蚀速率;将目标刻蚀速率代入速率确定模型,得到工艺参数需满足的条件;其中,速率确定模型为:以工艺参数为自变量、以刻蚀速率为因变量的模型,速率确定模型是通过样本特征参数、样本刻蚀速率对待训练模型进行训练得到的模型;根据工艺参数需满足的条件,调节工艺参数的值,以使得按工艺参数的值进行刻蚀所得到的实际刻蚀速率与目标刻蚀速率相等。采用本发明实施例的技术方案,可以控制离子束刻蚀过程中的刻蚀速率,提高了刻蚀速率的可控性,从而提高了离子束刻蚀过程的可控性和灵活性。

著录项

  • 公开/公告号CN110850812B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京邮电大学;

    申请/专利号CN201911127650.1

  • 申请日2019-11-18

  • 分类号G05B19/408(20060101);G06N20/00(20190101);H01J37/305(20060101);

  • 代理机构11413 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人马敬;赵元

  • 地址 100876 北京市海淀区西土城路10号

  • 入库时间 2022-08-23 11:07:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    授权

    授权

  • 2020-03-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G05B19/408 申请日:20191118

    实质审查的生效

  • 2020-02-28

    公开

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