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CMC涡轮构件及形成CMC涡轮构件的方法

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公开了包括具有第一表面(105)和第二表面(107)的CMC基底(103)的构件(101)。第一表面(105)与压缩的干流体(109)流体连通，而第二表面(107)与湿流体流(111)流体连通且包括气密性涂层(113)。构件(101)还包括从第一表面(105)延伸穿过CMC基底(103)的一部分(203)的至少一个开口(201)，其中，在气密性涂层(113)和CMC基底(103)中的一者或两者的碎片除去后，至少一个开口(201)选择性地允许压缩的干流体(109)至第二表面(107)的流(303)。在一个实施例中，构件(101)为燃气轮机构件，湿流体流(111)为热燃烧流，气密性涂层(113)为环境阻隔涂层(119)，且流(303)减少或消除CMC基底(103)的挥发。还公开了用于形成构件(101)的方法。

著录项

公开/公告号CN105840245B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-28

原文格式PDF
申请/专利权人通用电气公司;
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申请/专利号CN201610075336.3
发明设计人 J.M.德尔沃;A.J.加西亚-克雷斯波;V.J.摩根;J.J.基特尔森;
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申请日2016-02-03
分类号F01D11/06(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人刘林华;肖日松
地址美国纽约州
入库时间 2022-08-23 11:06:33

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-07-28

授权

授权
2017-12-29

实质审查的生效 IPC(主分类):F01D11/06 申请日:20160203

实质审查的生效
2016-08-10

公开

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