首页> 中国专利> 一种单片微波集成电路中静电防护结构及其制造方法

一种单片微波集成电路中静电防护结构及其制造方法

摘要

本发明提供了一种单片微波集成电路中静电防护结构,在晶体管的基区‑发射区、基区‑集电区之间分别并联设置有呈背对背结构设置的二极管组;每一个所述二极管组中包括两个二极管,两个二极管的阳极相互连接或者阴极相互连接形成背对背结构。本发明提供了一种单片微波集成电路中静电防护结构,有效降低静电防护结构在集成电路中所占用的面积大小。本发明还提供了上述静电防护结构的制造方法。

著录项

  • 公开/公告号CN107994015B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门市三安集成电路有限公司;

    申请/专利号CN201711113846.6

  • 发明设计人 魏鸿基;许燕丽;王江;朱庆芳;

    申请日2017-11-13

  • 分类号

  • 代理机构厦门市首创君合专利事务所有限公司;

  • 代理人张松亭

  • 地址 361000 福建省厦门市同安区洪塘镇民安大道753-799号

  • 入库时间 2022-08-23 11:05:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-17

    授权

    授权

  • 2018-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/02 申请日:20171113

    实质审查的生效

  • 2018-05-04

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号