一种含银复合膜的蚀刻液组合物及蚀刻方法

摘要

本发明公开了一种含银复合膜的蚀刻液组合物，按重量百分比计，其主要组成为4～9％的硝酸、45～55％的磷酸、8～15％的乙酸、0.1～5％的无机铵盐和20～30％的水，还包括重量百分比不大于5％的C4～C6脂肪族羟基酸，脂肪族羟基酸结构通式中与羧基相连的α位碳原子上含有羟基和H取代基。酸性蚀刻体系中，基于相同的无机酸浓度，α‑羟基酸的加入有助于降低银层的蚀刻速度，减小蚀刻液组合物对银和ITO的蚀刻速率差，改善顶层ITO坍塌，基板铝布线表面银单质吸附量少，满足后期镀膜要求，蚀刻产品良率提高。本发明还公开了一种含银复合膜蚀刻液组合物的蚀刻方法。