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光刻系统的传感器布置、光刻系统以及操作光刻系统的方法

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摘要

一种传感器布置(1)，用于检测在光刻系统中的光学元件的位置，其中传感器布置(1)包括：第一电容传感器装置(2)，其具有借助第一激励信号(V

1. 光刻系统的传感器布置、光刻系统以及操作光刻系统的方法 [P] . 中国专利： CN107924139B . 2020.06.09
2. 微光刻投影曝光设备的照明系统和用于操作该系统的方法 [P] . 中国专利： CN106030412B . 2019.12.24
3. SENSOR ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM, LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM [P] . 美国专利： US2018188656A1 . 2018-07-05

机译：光刻系统的传感器布置，光刻系统和操作光刻系统的方法
4. SENSOR ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM, LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM [P] . 欧洲知识产权局专利： EP3341795A1 . 2018-07-04

机译：光刻系统的传感器布置，光刻系统和操作光刻系统的方法
5. SENSOR ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM, LITHOGRAPHY SYSTEM, AND METHOD FOR OPERATING A LITHOGRAPHY SYSTEM [P] . 世界知识产权组织专利： WO2017032706A1 . 2017-03-02

机译：光刻系统的传感器布置，光刻系统和操作光刻系统的方法