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一种基于阱隔离与串接冗余晶体管的抗辐射SRAM单元制备方法

摘要

本发明属集成电路领域,涉及一种基于阱隔离与串接冗余MOS晶体管的抗辐射SRAM存储单元电路设计方法。本发明中串接两个PMOS晶体管和两个NMOS晶体管,构成一个反相器,两个所述的反相器绞合互连,并连接两个NMOS晶体管,构成SRAM单元,其中反相器输出端是存储节点。本发明的SRAM单元设计方法通过阱隔离使辐射产生的电子限制在一个晶体管的阱内,不会影响其它晶体管,反相器中串接的冗余晶体管会保证SRAM中存储节点值暂时不变,待辐射产生的电子通过阱释放到电源线或地线,辐射效应消失后,绞合相连的另一个反相器会使正确数据稳定存储。

著录项

  • 公开/公告号CN106328193B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN201510395376.1

  • 发明设计人 佘晓轩;

    申请日2015-07-07

  • 分类号

  • 代理机构上海元一成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴桂琴

  • 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号

  • 入库时间 2022-08-23 11:00:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-09

    授权

    授权

  • 2017-03-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11C11/413 申请日:20150707

    实质审查的生效

  • 2017-01-11

    公开

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