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光掩模、光掩模的制成方法以及使用该光掩模的图案形成方法

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摘要

本发明提供一种不依靠图案的形状或者是密集程度，而可在相同曝光条件下形成精细图案的光掩模。该光掩模是具有于透过性衬底(2)上所设置的光掩模图案，该光掩模图案是通过以下部分所构成：以透光部分(4)为基准而使曝光光线同相位透过的半遮光部分(3)；及以透光部分(4)为基准而使曝光光线反相位透过的移相器(5)。半遮光部分(3)是具有使曝光光线部分透过的透过率。移相器(5)是设置在通过该移相器的透过光可抵消透过透光部分(4)及半遮光部分(3)的光的一部分的位置上。

著录项

公开/公告号CN100373258C

专利类型发明授权
公开/公告日2008-03-05

原文格式PDF
申请/专利权人松下电器产业株式会社;
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申请/专利号CN02805742.2
发明设计人三坂章夫;
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申请日2002-12-24
分类号G03F1/08(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人汪惠民
地址日本大阪府
入库时间 2022-08-23 09:00:20

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-10-26

专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/08 变更前: 变更后: 申请日:20021224

专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2014-12-31

专利权的转移 IPC(主分类):G03F 1/08 变更前: 变更后: 登记生效日:20141208 申请日:20021224

专利申请权、专利权的转移
2008-03-05

授权

授权
2005-08-24

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-06-29

公开

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1. 光掩模、光掩模的制成方法以及使用该光掩模的图案形成方法 [P] . 中国专利： CN100373258C . 2008.03.05
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