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一种调整晶体管衬底电压校正片上非均匀性的装置及方法

摘要

本发明涉及一种调整晶体管衬底电压校正片上非均匀性的装置,包括:第一模数转换器,第二模数转换器,第一功能模块电路,第二功能模块电路,PMOS管,NMOS管,传感器探测元电阻阵列,积分电路,不感光电阻;NMOS管的漏极与传感器探测元电阻阵列连接,源极分别与PMOS管的漏极和积分电路连接;PMOS管的源极与不感光电阻的一端连接,漏极还与积分电路连接;第一功能模块电路和第二功能模块电路分别与PMOS管的栅极和NMOS管的栅极连接;第一模数转换器和第二模数转换器分别与PMOS管的衬底和NMOS管的衬底连接,用于调节PMOS管和NMOS管的衬底电压。本发明通过调节晶体管的衬底电压来实现片上非均匀性的校正,降低非均匀校正时调整电压对输出的噪声贡献,提高电路的扩展性能。

著录项

  • 公开/公告号CN108225564B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 烟台睿创微纳技术股份有限公司;

    申请/专利号CN201711327490.6

  • 发明设计人 李聪科;俞白军;

    申请日2017-12-13

  • 分类号

  • 代理机构北京轻创知识产权代理有限公司;

  • 代理人尉保芳

  • 地址 264006 山东省烟台市经济技术开发区贵阳大街11号

  • 入库时间 2022-08-23 10:58:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-15

    授权

    授权

  • 2018-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J5/00 申请日:20171213

    实质审查的生效

  • 2018-06-29

    公开

    公开

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