公开/公告号CN108225564B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-15
原文格式PDF
申请/专利权人 烟台睿创微纳技术股份有限公司;
申请/专利号CN201711327490.6
申请日2017-12-13
分类号
代理机构北京轻创知识产权代理有限公司;
代理人尉保芳
地址 264006 山东省烟台市经济技术开发区贵阳大街11号
入库时间 2022-08-23 10:58:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-15
授权
授权
2018-07-24
实质审查的生效 IPC(主分类):G01J5/00 申请日:20171213
实质审查的生效
2018-06-29
公开
公开
机译: 绝缘体上硅衬底的制造方法例如用于形成绝缘体。光学部件,包括在施主衬底上形成非晶层并在使施主衬底层转移到支撑衬底上之前重结晶非晶层
机译: 通过氢化非晶碳层对衬底进行局部钝化的方法,以及在该钝化衬底上制造薄膜晶体管的方法
机译: 通过氢化非晶碳层对衬底进行局部钝化的方法,以及在该钝化衬底上制造薄膜晶体管的方法