首页> 中国专利> 在真空条件下处理物体的多腔室装置、对该装置抽真空的方法及其抽真空系统

在真空条件下处理物体的多腔室装置、对该装置抽真空的方法及其抽真空系统

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明涉及一种在真空条件下处理物体的多腔室装置(1)，它具有一个连接到所述腔室(2、3、4)上的抽真空系统(5)；为降低抽真空的费用，建议抽真空系统(5)由一个具有多个级(11、12、13)的预真空泵组成，每一个级的都配置有一个入口(14、15、16)，并且每一个入口都连接到腔室(2、3、4)中的一个上。

著录项

公开/公告号CN100379894C

专利类型发明授权
公开/公告日2008-04-09

原文格式PDF
申请/专利权人奥林肯莱博尔德真空技术有限责任公司;
展开▼

申请/专利号CN02819815.8
发明设计人彼得·米勒;卢茨·阿恩特;
展开▼

申请日2002-09-28
分类号C23C16/44(20060101);C23C16/54(20060101);C23C14/22(20060101);C23C14/56(20060101);F04C23/00(20060101);
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人张兆东
地址德国科隆
入库时间 2022-08-23 09:00:20

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-11-20

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/44 授权公告日:20080409 终止日期:20120928 申请日:20020928

专利权的终止
2008-04-09

授权

授权
2005-06-29

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-04-27

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 在真空条件下处理物体的多腔室装置、对该装置抽真空的方法及其抽真空系统 [P] . 中国专利： CN1610767A . 2005-04-27
2. VACUUM PROCESSING DEVICE FOR IMPROVING PRODUCTIVITY BY VACUUMING FRONT AND REAR CHAMBERS IN FRONT AND REAR OF WORKING CHAMBER, AND VACUUM PROCESSING METHOD USING THE SAME [P] . 韩国专利： KR20050004349A . 2005-01-12

机译：通过对工作腔室的前部和后部的前部和后部腔室进行真空抽真空来提高生产率的真空处理设备，以及使用该真空抽气设备的真空处理方法
3. Vacuum pump, vacuum pump set for evacuating semiconductor processing chamber and method of evacuating semiconductor processing chamber [P] . KR1020220119631A;KR2022100119631A;KR20220119631A;KR20220119631 . 2022-08-30

机译：真空泵、用于抽真空半导体加工室的真空泵组及抽真空半导体加工室的方法
4. Evacuation device of vertical drop type and evacuation method using the same [P] . KR102701779B1;KR2024102701779B1;KR102701779B1; . 2024-09-04

机译：一种垂直落式抽真空装置及使用该抽真空装置的抽真空方法