法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-28
授权
授权
2018-07-06
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/11521 申请日:20170912
实质审查的生效
2018-07-06
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/11521 申请日:20170912
实质审查的生效
2018-02-06
公开
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2018-02-06
公开
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2018-02-06
公开
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机译: 自对准形成具有掩埋浮栅,尖端浮栅和尖端沟道区的浮栅存储器单元的半导体存储器阵列的方法,以及由此制成的存储器阵列
机译: 具有具有突出部分的浮栅的半导体存储器件以及形成具有具有突出部分的浮栅的半导体存储器件的方法
机译: 一种用埋入式浮栅形成浮栅存储器单元的半导体存储器阵列的自对准方法,并由此形成了一种存储器阵列