法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-07
授权
授权
2018-10-16
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20180515
实质审查的生效
2018-10-16
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20180515
实质审查的生效
2018-09-14
公开
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2018-09-14
公开
公开
2018-09-14
公开
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机译: 微波等离子体处理装置,微波等离子体处理装置的电板以及微波等离子体处理装置的馈电方法
机译: 将基板暴露于表面微波等离子体的方法,蚀刻方法,沉积方法,表面微波等离子体产生装置,半导体基板蚀刻装置,半导体基板沉积装置和微波等离子体产生天线组件
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