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用于指示膜层变化的宽频带光学终点检测系统与方法

摘要

公开了一种用于在化学机械抛光制程中检测终点的系统与方法,包括利用第一宽频带光束(132)照射晶片(300)表面的第一部分。接收第一反射光谱数据。第一反射光谱数据(308)对应于从晶片表面的第一照射部分反射的第一光谱的光。利用第二宽频带光束照射晶片表面的第二部分。第二反射光谱数据对应于从晶片表面的第二照射部分反射的第二光谱的光。将第一反射光谱数据和第二反射光谱数据标准化,基于标准化的第一光谱数据与第二光谱数据之间的差别来确定终点。

著录项

  • 公开/公告号CN100367468C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2008-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 兰姆研究有限公司;

    申请/专利号CN03807422.2

  • 发明设计人 V·卡茨;B·米切尔;

    申请日2003-03-26

  • 分类号H01L21/306(20060101);B24B49/12(20060101);G01B11/28(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人邹光新;梁永

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:00:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-28

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/306 变更前: 变更后: 申请日:20030326

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2009-07-15

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20090605 申请日:20030326

    专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)

  • 2008-02-06

    授权

    授权

  • 2005-09-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-07-20

    公开

    公开

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