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光学裸片对数据库检查

摘要

本发明提供用于检测晶片上的缺陷的方法及系统。一个系统包含一或多个计算机子系统,其经配置以基于用于印刷于所述晶片上的设计的信息而产生呈现图像。所述呈现图像是由光学检查子系统针对印刷于所述晶片上的所述设计产生的图像的模拟。产生所述呈现图像包含一或多个步骤,且所述计算机子系统经配置用于通过执行生成模型而执行所述一或多个步骤中的至少一者。所述计算机子系统还经配置用于比较所述呈现图像与所述晶片的由所述光学检查子系统产生的光学图像。使用主掩模将所述设计印刷于所述晶片上。另外,所述计算机子系统经配置用于基于所述比较的结果检测所述晶片上的缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN108431937B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201680077610.9

  • 发明设计人 高理升;罗涛;K·韦尔斯;李晓春;

    申请日2016-12-29

  • 分类号H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张世俊

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 10:48:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-07

    授权

    授权

  • 2019-01-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20161229

    实质审查的生效

  • 2019-01-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20161229

    实质审查的生效

  • 2018-08-21

    公开

    公开

  • 2018-08-21

    公开

    公开

  • 2018-08-21

    公开

    公开

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