首页> 中国专利> 高导电性二硫化钼纳米薄膜及其制备方法

高导电性二硫化钼纳米薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高导电性二硫化钼纳米薄膜及其制备方法,属于热电材料领域。所述高导电性二硫化钼纳米薄膜由二硫化钼及氯化铜构成,其中,所述氯化铜与二硫化钼的摩尔比0.01‑0.77:1,所述纳米薄膜的电导率为60‑101S/cm。本发明通过优化掺杂铜离子的浓度制备出高导电率及低热导率的二硫化钼纳米薄膜。

著录项

  • 公开/公告号CN107302050B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西科技师范大学;

    申请/专利号CN201710523491.1

  • 发明设计人 徐景坤;李霞;蒋丰兴;刘聪聪;

    申请日2017-06-30

  • 分类号

  • 代理机构北京恩赫律师事务所;

  • 代理人赵文成

  • 地址 330013 江西省南昌市昌北经济开发区枫林大道605号

  • 入库时间 2022-08-23 10:46:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-31

    授权

    授权

  • 2017-11-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L35/16 申请日:20170630

    实质审查的生效

  • 2017-11-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 35/16 申请日:20170630

    实质审查的生效

  • 2017-10-27

    公开

    公开

  • 2017-10-27

    公开

    公开

  • 2017-10-27

    公开

    公开

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